半導體工業(yè)是真空泵最大應用領域，也是當前主要的增長動力。ISVT數(shù)據(jù)顯示，2019 年全球真空設備的市場規(guī)模約 350 億元，其中半導體用真空設備約 135 億元，占比約 38%。ICInsights預計，到2025年全球半導體真空泵的設備與服務需求達到217億元。

　　真空泵廣泛應用于半導體制造的多個工藝環(huán)節(jié)，包括半導體大硅片生產(chǎn)環(huán)節(jié)的單晶爐，在晶圓制造環(huán)節(jié)的光刻機、刻蝕機、薄膜沉積設備、離子注入機等，以及在封測環(huán)節(jié)的模塑設備領域等。

　　真空系統(tǒng)對半導體工藝環(huán)節(jié)品質(zhì)影響很大，直接關系到芯片的性能和良率。只有在高品質(zhì)的真空環(huán)境下，才能有效地控制加工和測試中的氧化、污染等問題，從而保證半導體器件的質(zhì)量和可靠性。

　　近年來，半導體工業(yè)對真空泵要求越來越高，需要將制造過程控制在更小的尺寸，要實現(xiàn)這一點，半導體工藝就必須在極度受控的真空環(huán)境下以更高精度和均勻性執(zhí)行更多的半導體制造過程步驟，以提升產(chǎn)品品質(zhì)和生產(chǎn)效率，這就對真空泵的真空潔凈度和穩(wěn)定性提出更嚴苛的要求。

　　此外，由于半導體制造每條生產(chǎn)線不同，工藝需求也不同，要求真空泵具備高度的自動化和智能化，可以根據(jù)工藝要求自動調(diào)節(jié)真空度和泵速，提高生產(chǎn)效率和穩(wěn)定性。

　　而傳統(tǒng)真空泵一般是使用水或油進行真空階段的密封或潤滑，可能會產(chǎn)生不同類型的污染和氣體浸染，無法滿足清潔無油及耐腐蝕的要求，在一定程度上會影響真空系統(tǒng)的質(zhì)量。盛源推出的新一代無油真空泵，雙倍高真空、無油低環(huán)保、低熱高效，進一步優(yōu)化半導體真空工藝，不僅消除半導體工藝中的油污染，而且運行成本低，因此備受客戶青睞。

　　1.高真空，滿足半導體工藝需求

　　盛源無油真空泵采用高精密高可靠真空泵頭，含高精密過濾器，深度過濾雜質(zhì)，真空更潔凈，二級真空最高可達1000pa，同時抽氣快、狠和穩(wěn)，滿足半導體各工藝環(huán)節(jié)對真空環(huán)境高品質(zhì)、高穩(wěn)定性的嚴苛要求。

　　2.無油環(huán)保，保護工件免受污染

　　采用進口皮碗原料，氣缸內(nèi)壁特殊處理，形成自潤滑，因此真空泵無需加油潤滑即可運行，不僅環(huán)保，而且確保半導體制造工藝的產(chǎn)品品質(zhì)。

　　3.免于維護，配件可靠經(jīng)久耐用

　　盛源無油自潤滑技術，讓設備免于維護，而且在長久運行真空度有所下降的情況下，也僅需更換易損件，更換一下，至少可以運行8000H以上。此外，核心配件采用進口品牌，確保產(chǎn)品壽命更長，降低客戶使用成本。

　　4.低熱高效、低噪靜音，保障安全

　　半導體在真空泵的應用中，有害氣體比較多，泵腔內(nèi)溫度過高，高溫下易燃易爆及有毒氣體就會容易發(fā)生危險。盛源新一代無油真空泵采用純銅電機，專業(yè)電機設計，滿足24H連續(xù)運行，溫低至50K，電機能效比高，極低發(fā)熱量，避免危險事件發(fā)生。

　　此外采用四級低轉(zhuǎn)速電機，四缸對稱設計，振動小，噪音低到60dB(A)，滿足半導體的特殊工藝要求。

　　5.高度自動化，靈活調(diào)節(jié)真空度

　　在半導體制造領域，由于每條生產(chǎn)線工況都不相同，客戶需要定制化產(chǎn)品和解決方案，盛源新一代無油環(huán)保真空泵配置微電腦真空表，可靈活調(diào)節(jié)真空度，精確顯示真實參數(shù)，使用方便快捷，能滿足不同半導體不同產(chǎn)線工藝需求。

　　盛源無油真空泵不僅適用于半導體制造領域，而且還廣泛應用于機器人自動化行業(yè)、包裝機、醫(yī)療行業(yè)、航天實驗室、精密儀器、電子印刷等領域。盛源是國內(nèi)最早從國外引進無油真空泵并自主改進研發(fā)制造的企業(yè)，始終重視產(chǎn)品質(zhì)量和性能升級，在無油真空泵領域具有25年的研發(fā)制造經(jīng)驗，具有專業(yè)化的研發(fā)實驗室，掌握無油真空泵關鍵技術專利，把“為客戶有價值的產(chǎn)品”作為經(jīng)營理念，憑借高質(zhì)量高效率高穩(wěn)定性的產(chǎn)品優(yōu)勢，已獲得海內(nèi)外500強企業(yè)的青睞。